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半導(dǎo)體硅片清洗工藝發(fā)展方向

半導(dǎo)體硅片清洗工藝發(fā)展方向

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級(jí)別:| 積分:0 分 | 瀏覽:80984 | 大小:453.04KB | 下載:4466 次 | 上傳:2013-09-30

簡(jiǎn)介:

對(duì)半導(dǎo)體硅片傳統(tǒng)的RCA清洗辦法中各種清洗液的清洗原理、清洗特點(diǎn)、清洗局限以及清洗對(duì)硅片表面微觀狀態(tài)的影響進(jìn)行了詳細(xì)的論述,同時(shí)在此基礎(chǔ)上,對(duì)新的清洗辦法(改進(jìn)的RCA清洗辦法)進(jìn)行了一定的說(shuō)明,指出了硅片清洗工藝的發(fā)展方向。

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